نیترید هافنیوم ؛ نیترید هافنیم HfN
خصوصیات: پودر خاکستری ، ساختار کریستال مکعب. نقطه ذوب 3310 ℃ ، سختی 16GPa. کاملاً پایدار ، اما آسان برای آبزیان ، خوردگی اسید سولفوریک غلیظ ، اسید هیدروفلوئوریک است. خلوص بالا ، اندازه ذرات کوچک ، توزیع یکنواخت ، سطح ویژه بزرگ ، فعالیت سطح بالا ، پودر خاکستری ، ساختار کریستال مکعب. سختی 16GPa.
با واکنش مستقیم هافنیم و نیتروژن در دمای 900 or یا با واکنش هالیدهای هافنیوم و آمونیاک یا مخلوطی از نیتروژن و هیدروژن تولید می شود. آلیاژ هافنیم یکی از اجزای مهم ترکیب نسوز است.
کاربرد محصول:
نیترید هافنیم دارای ویژگی های مکانیکی ، الکتریکی ، نوری ، دمای بالا و مقاومت در برابر خوردگی است و در زمینه تولید مکانیک و میکروالکترونیک کاربردهای بسیار مهمی دارد. نانومتر نیترید هافنیم می تواند به طور گسترده ای در زمینه های نیمه هادی ، فوتوالکتریک و ماشینکاری استفاده شود. به دلیل ادغام انواع ویژگی های مکانیکی ، حرارتی ، نوری و مقاومت در برابر سایش بسیار عالی ، انتظار می رود فیلم نانومتری نیترید هافنیم به یک ماده پوشش محافظ ضد انعکاس پنجره نوری کارآمد تبدیل شود ، می تواند در دستگاه های نوری کلید هوا فضا مورد استفاده قرار گیرد. HfN نوع جدیدی از مواد سخت با نقطه ذوب بالا ، سختی بالا ، مقاومت در برابر سایش و مقاومت در برابر اکسیداسیون است. این می تواند به عنوان لایه محافظ برای زمینه های فنی و تزئینی ، فیلم خارجی مقاوم در برابر سایش برای ابزارهای برش ، فیلم بی اثر شیمیایی و فیلم محافظ مقاوم در برابر درجه حرارت بالا استفاده شود.